Рефераты по Физике

Исследование электроразрядных эксимерных лазеров

Страница 4

В настоящем разделе представлены результаты исследования влияния задержки между основным разрядом и разрядом предыонизации на энергию генерации мощного XeCl-лазера, а также результаты оптимизации параметров контуров возбуждения разряда с емкостной и искровой предыонизацией. https://modelcristal.ru работа в тюмени без опыта вакансии в тюмени без опыта работы.

В лазерах на галогенидах инертных газов предыонизация разрядом, ограниченным диэлектриком, имеет потенциальные преимущества, поскольку по сравнению с предыонизацией искрой или скользящим разрядом, она в меньшей степени разлагает активную смесь и тем самым продлевает срок ее службы [10]. Кроме того, обеспечивается более однородная подсветка УФ-излучением основного разрядного промежутка по сравнению с искровой предыонизацией. Однако меньшая по сравнению с сильноточной искрой эффективность образования УФ-излучения и ограниченный ресурс работы диэлектрика, сдерживают широкое применение этого вида предыонизации. Это приводит к тому, что в большинстве электроразрядных эксимерных лазеров, выпускаемых серийно, применяется, как правило, искровая предыонизация. Таким образом, увеличение эффективности и ресурса работы предыонизации за счет разряда, ограниченного поверхностью диэлектрика, является актуальной задачей при разработке и создании мощных электроразрядных эксимерных лазеров.

На рис.4,а представлены типичные осциллограммы тока разряда емкостной предыонизации (1) напряжения на обострительной емкости С0 (2), тока основного разряда (3) и импульса генерации (4) с взаимной временной привязкой. Анализ осциллограмм тока в цепи предыонизации показывает, что разряд Спр на емкость, образованную диэлектриком на поверхности ЭП - Сд через разрядный промежуток сетчатый катод-поверхность пленки ЭП носит колебательный характер с периодом Т~ ~ 70 нс. Это указывает на то, что активное сопротивление разрядного контура LпрCпр значительно меньше волнового сопротивления. При таком режиме ввода энергии максимальная амплитуда напряжения Uд, возникающего на диэлектрике электрода предыонизации, близка к удвоенному зарядному напряжению на Спр, что накладывает жесткие требования на материал диэлектрика.

На рис.4,б приведены зависимости энергии генерации XeCl-лазера от величины задержки между началом основного разряда и началом разряда предыонизации. Кр. 1 соответствует резонатору с зеркалом с А1 покрытием, а кр. 2 – с многослойным диэлектрическим (Rотр ~100%) и были получены на системе возбуждения типа LC-инвертор (рис.1б). Кр.3 соответствует системе возбуждения типа LC-контур (рис.1а). Параметры контура возбуждения предыонизации: Lпр = 50 нГн, Спр = 6 нФ. Как видно оптимальная задержка начала тока основного разряда составляет ~100 нс. Ее уменьшение приводит к резкому снижению эффективности генерации и значительному росту неоднородности разряда. При малых задержках концентрация свободных электронов в межэлектродном промежутке к моменту начала основного разряда мала, что является причиной неоднородного разряда, низкой энергии генерации и ее нестабильности. Увеличение задержки выше оптимального значения, также сопровождается резким снижением энергии генерации, что обусловлено следующими процессами. Во-первых, предыонизация осуществляется наиболее жесткой составляющей излучения емкостного разряда, которая обладает относительно высокой интенсивностью в течение первых 100-150 нс, т.е. на стадии формирования и развития разряда. Во-вторых, поток проникающих электронов генерируется при наличии высокой напряженности электрического поля, которая существует только на стадии формирования разряда предыонизации. В третьих, разряд предыонизации существует до тех пор, пока потенциалы на поверхности пленки и на Спр не сравняются. Из осциллограмм (рис.4,а) следует, что через ~ 0,5 мкс потенциалы Спр и поверхности пленки выравниваются и разряд фактически прекращается. В четвертых, происходит уменьшение концентрации электронов из-за рекомбинации и прилипания.

Все дальнейшие эксперименты проводились только с использованием LC-инвертора.

На рис.2,в представлены зависимости энергии генерации XeCl-лазера от величины задержки начала тока основного разряда относительно начала тока разряда емкостной предыонизации при различном содержании активных компонент смеси. Видно, что с уменьшением содержания НС1 и Хе в два раза величина оптимальной задержки уменьшается до 60 нс. Кроме того, при задержках, больших оптимальных, энергия генерации также выше (кр.2). Это связано с тем, что при одинаковой интенсивности источника предыонизации необходимая концентрация свободных электронов в активной среде с меньшим содержанием галогеноносителя достигается раньше, так как уменьшается концентрация частиц, к которым они прилипают.

На рис.5,а представлена зависимость выходной энергии лазера от напряжения питания емкостной предыонизации U0. Задержка основного разряда относительно начала предыонизации имела оптимальное значение, равное 100 нс. При увеличении напряжения питания предыонизации от 15 до 35 кВ энергия генерации лазера возрастает от 0,4 до 0,65 Дж. На рис.5,б приведена зависимость энергии генерации от величины индуктивности в контуре возбуждения предыонизации Lпр при емкости предыонизации Cпр=6,6 нФ. Видно, что уменьшение Lпр приводит к возрастанию выходной энергии, которое обусловлено ростом тока разряда, и сокращением фронта импульса предыонизации. Зависимость энергии генерации лазера от величины емкости в цепи, возбуждения предыонизации Спр при оптимальном значении Lпр = 50 нГн приведена на рис.6,в.

Теперь рассмотрим некоторые особенности присущие емкостной предыонизации. Уравнение для величины тока I, протекающего в контуре предыонизации имеет вид:

(5) где 2δ=Rпр/Lпр; Rпр - сопротивление плазмы в цепи предыонизации; =. Это уравнение решалось при разных начальных условиях.

1. Начальный ток I(0)=0; начальное напряжение на диэлектрике, то есть на емкости Сд равно нулю, то есть UCд=0. Тогда решение имеет вид

Перейти на страницу:  1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14  15  16  17  18  19